金屬電鍍光譜測(cè)厚儀XD-1000標(biāo)準(zhǔn)配置

金屬電鍍光譜測(cè)厚儀開放式樣品腔。
精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和X光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。
雙激光定位裝置。
鉛玻璃屏蔽罩。 
Si-Pin探測(cè)器。
信號(hào)檢測(cè)電子電路。
高低壓電源。
高度傳感器
保護(hù)傳感器
計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)
型號(hào)：金屬電鍍光譜測(cè)厚儀
元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。 
同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9% 。
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。 
外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm 
樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：100kg

部分產(chǎn)品

X射線熒光測(cè)厚儀，X射線鍍層測(cè)厚儀，x光鍍層測(cè)厚儀， 國產(chǎn)鍍層測(cè)厚儀，X熒光鍍層測(cè)厚儀，國產(chǎn)X熒光鍍層測(cè)厚儀，x光鍍層測(cè)厚儀，X射線鍍層測(cè)厚儀價(jià)格，鍍層測(cè)厚儀， XRF鍍層測(cè)厚儀，國產(chǎn)電鍍層測(cè)厚儀，X熒光鍍層測(cè)厚儀，電鍍層測(cè)厚儀，x射線熒光鍍層測(cè)厚儀， x熒光鍍層測(cè)厚儀價(jià)格，金屬鍍層測(cè)厚儀，X熒光電鍍層測(cè)厚儀，鍍層膜厚測(cè)試儀，無損金屬鍍層測(cè)厚儀，X光電鍍層測(cè)厚儀，X熒光鍍層測(cè)厚儀品牌，鍍層測(cè)厚儀，X射線金屬鍍層測(cè)厚儀，x射線電鍍層測(cè)厚儀，電鍍鍍層測(cè)厚儀，國產(chǎn)X射線鍍層測(cè)厚儀，xrf鍍層膜厚測(cè)試儀，X熒光鍍層膜厚儀，X射線鍍層膜厚儀,金屬電鍍光譜測(cè)厚儀。

金屬電鍍光譜測(cè)厚儀XD-1000產(chǎn)品介紹

是專業(yè)生產(chǎn)金屬電鍍光譜測(cè)厚儀，分析儀器上市企業(yè)，金屬電鍍光譜測(cè)厚儀是一款自動(dòng)化程度較高的儀器，電腦操作，極大方便了客戶使用。配上專門為其開發(fā)的軟件，在鍍層行業(yè)中可謂大展身手。
性能特點(diǎn)
金屬電鍍光譜測(cè)厚儀滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求
φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求
高精度移動(dòng)平臺(tái)可精確定位測(cè)試點(diǎn)，重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度
定位激光確定定位光斑，確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線屏蔽作用
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

應(yīng)用領(lǐng)域

金屬電鍍光譜測(cè)厚儀廣泛應(yīng)用在黃金，鉑，銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè).金屬鍍層的厚度測(cè)量, 電鍍液和鍍層含量的測(cè)定，主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè)；銀行，首飾銷售和檢測(cè)機(jī)構(gòu)；電鍍行業(yè)。